idonus UV-EXP系列曝光系統(tǒng)專為滿足最嚴(yán)格的光質(zhì)量需求而設(shè)計，采用高功率UV-LED光源、優(yōu)質(zhì)光均勻器和遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)。它既可以作為獨立的桌面設(shè)備使用，提供足夠的工作空間以容納您的基板，也可以集成到您的系統(tǒng)中。本文將幫助您選擇最適合您需求的型號，并規(guī)劃其在您的工作流程中的集成。
光學(xué)系統(tǒng)架構(gòu)
光源單元（UV-EXP-LE）
UV-EXP 系統(tǒng)內(nèi)部嵌入了我們的高性能 UV LED 光源單元（UV-EXP-LE）。通常，單顆 LED 產(chǎn)生的光波長為 365 nm、385 nm、395 nm、405 nm、435 nm 或這些波長的組合（在我們的標(biāo)準(zhǔn)配置中為 365/405/435 nm）。UV-EXP-LE 通過電子控制精確調(diào)節(jié)，并通過空氣或水冷卻。安裝在 UV-EXP 背部的電源模塊提供所需的工作電流。
LED 產(chǎn)生的原始光經(jīng)過一套高級均勻化光學(xué)元件處理后，均勻化為一致的光線，然后進(jìn)入曝光源外殼進(jìn)一步處理。
機(jī)械基礎(chǔ)（UV-MB）和 UV 防護(hù)罩（UV-SHIELD）
機(jī)械基礎(chǔ)（UV-MB）支撐 UV-EXP 系統(tǒng)，UV 防護(hù)罩封閉了工作空間。它被設(shè)計為為您的基片和對準(zhǔn)工具提供充足的工作空間。四周的 UV 防護(hù)罩過濾掉有害的 UV 光，保護(hù)您的眼睛和周圍的材料，同時始終保持視覺控制。
曝光源（UV-EXP）
曝光源采用無反射外殼，封閉光源單元并支撐遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)。準(zhǔn)直光學(xué)元件將發(fā)散的（但已均勻化的）紫外線光線垂直對準(zhǔn)您的基片。
該光源是為特定的曝光區(qū)域設(shè)計的。根據(jù)您的基片尺寸，您可以選擇我們的標(biāo)準(zhǔn)尺寸（?150、□150、?200、□200 和 □300 毫米）。也可提供定制尺寸。
控制單元（UV-EXP-CU）和反饋傳感器（UV-SENS-GaP）
曝光系統(tǒng)的操作由 UV-EXP-CU 控制單元控制。通過紫外線和溫度傳感器的反饋回路，UV-EXP-CU 控制功率、曝光時間、輻照度或劑量。系統(tǒng)提供了安全互鎖功能。
也可以提供遠(yuǎn)程控制單元 UV-EXP-RCPU，以便與您的現(xiàn)有設(shè)備協(xié)議進(jìn)行集成。
UV-EXP產(chǎn)品線
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| 型號 | UV-EXP150R-SYS | UV-EXP150S-SYS | UV-EXP200S-SYS 或 UV-EXP200R-SYS | UV-EXP300S-SYS |
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| 曝光區(qū)域 | ? 150 mm | 150 × 150 mm2 | 200 × 200 mm2 或 ? 200 mm | 300 × 300 mm2 |
| 波長 | 365 nm 和/或 385 nm / 395 nm / 405 nm / 435 nm（一個波長為標(biāo)準(zhǔn)） 所有型號可配置多波長峰值的 UV-LED（例如，1LE-3WL：365/405/435 nm 組合） | |||
| 輻照度（@ 365 nm） | 40 mW/cm2 | 40 mW/cm2 | 25 mW/cm2 | 12 mW/cm2 |
| 輻照度（@ 385、395 和 405 nm） | 50 mW/cm2 | 50 mW/cm2 | 30 mW/cm2 | 17 mW/cm2 |
| 輻照度不均勻度 *1 | ±3% | ±3% | ±3% | ±3% |
| 準(zhǔn)直角度 *2（±α，F(xiàn)WHM c） | ±1.8° | ±1.8° | ±1.4° | ±0.9° |
| 工作距離（WD） | 350 mm | 300 mm | 400 mm | 300 mm |
| 選項 | ? 可調(diào)準(zhǔn)直角度 – UV-ACA：手動更換孔徑以減少準(zhǔn)直角度，輻照度會受到影響。該模塊安裝在光源上，UV-EXP 配有手動更換孔徑的開口 ? 水冷 – UV-WA：適用于連續(xù)使用，提供高度穩(wěn)定的輸出 ? 光源升級為 2× 或 3× LED，具有不同波長 –（2LE 或 3LE）：提高使用的多功能性（UV-EXP 配有外部可操作的機(jī)械開關(guān)，用戶可以選擇使用的 LED） ? 樣品夾具：用于軟接觸或真空接觸的基片和掩模夾具（Chuck）： ? ? 2’’ ? ? 3’’ ? ? 100 mm ? ? 150 mm ? ? 200 mm ? ? 300 mm | |||
*1 輻照度不均勻度表示為 ±C，其中 C 是 Michelson 對比度比率：C = (最大值 – 最小值) / (最大值 + 最小值)。
*2 為避免歧義，半角用 ? 表示，全角用 2? 表示。因此，準(zhǔn)直角度為 2? 或 ±?，如數(shù)據(jù)表中所示。
c FWHM：半最大寬度 (Full Width at Half Maximum)。
高功率 UV-LED 源
我們的 UV-EXP 曝光系統(tǒng)集成了高功率發(fā)光二極管（LED）來生成紫外光。與傳統(tǒng)系統(tǒng)中使用的汞（Hg）燈相比，LED 具有許多優(yōu)勢，正在推動整個行業(yè)的轉(zhuǎn)型。下表中列出了 LED 技術(shù)的主要技術(shù)特點，而圖 2 中展示了與 UV 光刻相關(guān)的 4 個波長的光譜分布。
365 nm 的 UV-LED 提供了最佳的多功能性，并且是我們推薦的大多數(shù)應(yīng)用的選擇。對于過程效率至關(guān)重要的參數(shù)，385 nm 是某些光刻膠的最佳選擇。
2LE 或 3LE 選項允許在曝光單元上安裝 ×2 或 ×3 個 LED，并可以在需要時在幾秒鐘內(nèi)手動切換。
| 高功率 UV-LED | |
| 光譜 |
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| 壽命 | 壽命 >10,000 小時（實際曝光時間） |
| 穩(wěn)定性 |
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| 環(huán)境影響 |
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光照質(zhì)量
光刻工藝要求照射晶圓的光源具有 均勻性、準(zhǔn)直性和遠(yuǎn)心性。
均勻性 確保整個光刻膠表面獲得一致的曝光/固化水平，典型的照度不均勻性要求低于 ±5%。我們的 UV-EXP 產(chǎn)品保證 ±3% 的均勻性，優(yōu)于大多數(shù)競爭對手。每臺 UV-EXP 出廠前都會在 4000 多個點掃描照射區(qū)域，確保均勻性。
準(zhǔn)直角（collimation angle）在 ±1° 至 ±2° 之間（具體取決于型號）。該角度足夠小，可用于 精細(xì)結(jié)構(gòu)曝光，同時適用于 厚光刻膠層。
UV-ACA（可調(diào)準(zhǔn)直角） 選項提供一組可更換的固定光闌，可用于 進(jìn)一步降低準(zhǔn)直角，但會相應(yīng)降低照度輸出。
UV-EXP-CU 控制單元與反饋控制
UV-EXP-CU 控制單元（第二代型號，默認(rèn)包含）可實現(xiàn)對曝光參數(shù)的全面控制：
- 曝光時長：0.1 至 600 秒
- 電流控制：調(diào)節(jié) LED 供電電流，范圍為額定電流的 10% 至 100%
- 輻照度控制：從最低 5 mW/cm2 至系統(tǒng)最大輻照度
- 劑量控制：總劑量（輻照度 × 時間）范圍 10 至 9,000 mJ/cm2
- 光譜功率分布 (SPD) 調(diào)節(jié)：適用于多波長光源，支持全光譜分布控制
精準(zhǔn)輸出由磷化鎵 (GaP) UV-SENS GAP 傳感器（系統(tǒng)標(biāo)配）確保，該傳感器安裝在 UV-EXP 機(jī)身上，并通過閉環(huán)反饋控制調(diào)節(jié)輻照度。
此外，光源引擎的溫度實時測量與顯示，冷卻系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)以維持安全工作溫度。
- 標(biāo)準(zhǔn)冷卻方式：空氣冷卻熱管系統(tǒng)
- 水冷選項 (UV-WA)：推薦用于長時間工作，以確保更高的工藝穩(wěn)定性
遠(yuǎn)程控制選項
- UV-EXP-RCU 遠(yuǎn)程控制單元（可選）適用于 OEM 集成商
- 通過ModBus TCP 協(xié)議實現(xiàn)主控系統(tǒng)直接控制
- 支持脈沖操作
如需 UV-EXP-RCU 的詳細(xì)技術(shù)文檔，請聯(lián)系銷售團(tuán)隊。
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