Kimball Physics 提供的離子槍（或稱離子源）廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

• 表面物理研究

• 空間物理與等離子體物理

• 真空物理實(shí)驗(yàn)

• 電荷中和（Charge Neutralization）

• 探測(cè)器校準(zhǔn)

• 二次離子質(zhì)譜（SIMS）

• 分子束外延（MBE）中的離子注入

⚙️ 工作范圍（Range of Operation）

• 能量范圍：10 eV ~ 20 keV

• 束流范圍：1 nA ~ 2 μA

• 束斑尺寸：500 μm ~ 25 mm

🔄 多功能性（Versatility）

• 靈活控制器：通過光纖獨(dú)立控制和測(cè)量多個(gè)功能，包括：

  • 離子能量

  • 離子源功率

  • 電子能量

  • 場(chǎng)控（Field Control）

  • 束流提取（Extract）

  • 聚焦控制（Focus）

  • X-Y 偏轉(zhuǎn)與掃描（Deflection / Rastering）

  • 電子電流控制等

• 離子種類選擇：可選堿金屬離子源（如 Li?、Na?、K? 等），以生成不同種類的離子束。

📈 性能表現(xiàn)（Performance）

• 束流穩(wěn)定性：

  • 使用 ECC（發(fā)射電流控制）時(shí)：±1.0% / 小時(shí)

  • 不使用 ECC 的堿金屬源：±10% / 小時(shí)（預(yù)熱后）

• 能量穩(wěn)定性：

  • ±0.01% / 小時(shí)

  • ±0.02% / 8 小時(shí)（滿功率輸出下）

🛠️ 操作能力（Operational Capabilities）

• 快速電容式束流脈沖 或 雙柵格脈沖模式

• 電子束偏轉(zhuǎn)與掃描功能

• 槍體集成法拉第杯（用于實(shí)時(shí)束流測(cè)量