美國(guó)Kimball Physics,電子槍系統(tǒng),中等能量（最大 30 keV),EGH-6210 EGPS-6210

美國(guó)Kimball Physics,電子槍系統(tǒng),中等能量（最大 30 keV),EGH-6210 EGPS-6210

Kimball Physics 是電子槍（束）系統(tǒng)的領(lǐng)先供應(yīng)商，其設(shè)計(jì)適用于各種超高真空 （UHV） 表面物理、空間物理和加工應(yīng)用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHED 等應(yīng)用;或用于泛光束，用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍

  • 能量范圍：1 eV 至 100 keV
  • 光束電流范圍：1 nA 至 20 mA
  • 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

性能

  • 束流穩(wěn)定性：反饋穩(wěn)定發(fā)射電流控制;優(yōu)于每小時(shí) ± 0.1%
  • 能量穩(wěn)定性：±每小時(shí) 0.01%，全輸出時(shí)每 8 小時(shí)± 0.02%，以最大限度地減少色差

方便

  • 客戶可更換的點(diǎn)火裝置
  • 全運(yùn)行期間的機(jī)械對(duì)中
  • 可存儲(chǔ)控件設(shè)置
  • 電腦遙控器/計(jì)量

運(yùn)營(yíng)能力

型號(hào) #： EGH-6210 EGPS-6210

描述

可聚焦、高能電子束，光斑尺寸小至 50 μm

1 keV 至 60 keV

應(yīng)用：

功能/選項(xiàng)：

  • 小光斑尺寸低至 50 μm
  • 中等電流束至 5 mA
  • 高達(dá) 10 mA 的高電流束
  • 靜磁聚焦
  • 靜磁光束整形（可選）
  • 靜磁偏轉(zhuǎn)
  • 脈沖能力
  • 運(yùn)行期間的內(nèi)部對(duì)準(zhǔn)
  • 差速泵送

用戶可更換的點(diǎn)火裝置

能量范圍：1 keV 至 60 keV
光束電流：10 μA 至 5 mA
光斑尺寸：50 μm 至 10 mm
安裝：2.75 英寸（23/4）CF

Kimball Physics EGH-6210 電子槍及其匹配的 EGPS-6210 電源是一個(gè)完整的子系統(tǒng)，可連接到用戶的真空系統(tǒng)并打開。它可以在非常廣泛的能量、電流和功率范圍內(nèi)傳遞電子。EGH-6210 可應(yīng)用于空間材料測(cè)試、輻射研究、半導(dǎo)體研究、X 射線產(chǎn)生和等離子體激發(fā)。

該槍使用單晶六硼化鑭 （LaB6） 陰極產(chǎn)生高能、可聚焦的小光斑電子束。束流能量和束流都可以在很寬的范圍內(nèi)獨(dú)立調(diào)節(jié);能量從 1 keV 到 60 keV，電流從 10 μA 到 5 mA。電子束可以通過(guò)控制網(wǎng)格的輸入信號(hào)進(jìn)行脈沖傳輸。

噴槍的可調(diào)節(jié)光學(xué)元件可以適應(yīng)不同的發(fā)散和一系列工作距離，適用于各種應(yīng)用。磁性聚焦透鏡可以將光斑尺寸從 10 mm 變?yōu)?50 μm。磁性定心和可選的整形線圈提供額外的電子束控制，允許用戶偏轉(zhuǎn)和塑造電子束。整形通常會(huì)產(chǎn)生橢圓形梁，其兩個(gè)軸都可以獨(dú)立壓縮或延伸。靜磁聚焦透鏡和偏轉(zhuǎn)整形四極桿都能產(chǎn)生低像差的結(jié)果。此外，陰極到陽(yáng)極的間距可在內(nèi)部調(diào)節(jié)以改變磁長(zhǎng)。

該噴槍具有可調(diào)節(jié)的陰極饋通組件，允許點(diǎn)火裝置相對(duì)于陽(yáng)極和色譜柱進(jìn)行機(jī)械對(duì)準(zhǔn)。這種對(duì)準(zhǔn)可以在噴槍在光束打開的情況下運(yùn)行時(shí)實(shí)時(shí)完成。


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