離子槍系統(tǒng)Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測校準(zhǔn)、二次離子質(zhì)譜和 MBE 的離子注入。操作范圍:● 能量范圍:10eV 至 20 keV● 射束電流范圍:1 nA 至 2 μA● 光斑尺寸范圍:500 μm 至 25 mm優(yōu)勢:● 靈活的控制器:獨(dú)立的光纖控制和計(jì)量功能,如離子能量、源、電子能量、場控制、提取、聚焦、X-Y偏轉(zhuǎn)和電子電流控制● 堿金屬離子源的選擇允許不同的離子種類性能:● 射束電流穩(wěn)定性:使用發(fā)射電流控制時(shí)每小時(shí) ±1.0% 或?qū)τ趬A金屬源在沒有 ECC 的情況下預(yù)熱后每小時(shí) ±10%● 能量穩(wěn)定性:每小時(shí) ± 0.01%,滿輸出時(shí)每 8 小時(shí) ± 0.02%應(yīng)用:● 快速電容光束或雙柵極脈沖● 偏轉(zhuǎn)/光柵● 槍式法拉第杯離子槍 ILG-6 / IGPS-1016 IGS-4 / IGPS-2014 IMG-4212 / IGPS-3212