應用：

• 表面物理研究
• 真空物理實驗
• 電荷中和
• 電子解吸
• 表面清理
• 熒光粉測試
• 電離實驗
• 半導體加工

功能/選項：

• 參數可控性廣
• 泛光光束或窄角光束
• 靜電聚焦
• 偏轉、光柵、脈沖
• 可拆卸噴槍
• 電腦 / 遙控器

能量范圍：10 eV 至 1500 eV
光束電流：1 nA 至 100 μA
光斑尺寸：1mm 至 100mm
安裝：2.75 英寸（23/4 英寸）CF，可拆卸選項
特點/選項：窄角光束或泛光光束、靜電聚焦、偏轉、光柵、脈沖

Kimball Physics?EFG-7?電子槍及其匹配的?EGPS-1017?電源旨在用于各種超高真空 （UHV） 物理實驗、表面物理實驗和加工應用。它是一個完整的子系統(tǒng)，隨時可以連接和打開。光束能量、光束電流和光斑尺寸可在很寬的范圍內獨立調節(jié)。

EFG-7 電子槍使用難熔金屬陰極產生均勻的泛光光束。槍式設計允許產生低能量和極低電流的光束。標準型號 EFG-7 可產生 1 nA 至 100 μA 的束流和 10 eV 至 1500 eV 的能量。高電流選項提供高達 1 mA 的光束電流。

居中、偏轉、光柵和脈沖均作為選項提供。由于該設計已優(yōu)化為泛洪槍，并使用圓柱形 4 極偏轉器，因此當光束聚焦到一個小點時，偏轉像差可能會很嚴重。

全程采用 UHV 技術。該噴槍可以在 10 級真空中運行^-11torr 最多 10^-5torr 用于標準 Ta 盤陰極。電子槍可在去除電纜后烘烤至 350°C。使用法拉第杯時，最大值為 65^oC 。

Kimbal電子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 是電子槍（束）系統(tǒng)的領先供應商，其設計適用于各種超高真空 （UHV） 表面物理、空間物理和加工應用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸，用于 X 射線生產、焊接和 RHED 等應用;或用于泛光束，用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。