LK2000光譜儀 高分辨率電子能量損失譜（EELS）振動光譜學(xué) 烴類化學(xué)吸附（催化）、硅片清洗技術(shù)分析、聚合物薄膜表征、C60薄膜研究

介紹
高分辨率電子能量損失譜（EELS）是一種強有力的表面分析技術(shù)，能夠在高真空環(huán)境下對金屬和半導(dǎo)體表面進行獨特的振動分析。在適當(dāng)條件下，絕緣體和聚合物薄膜也可進行分析。EELS能夠輕松提供以下重要信息：
? 吸附物的振動頻率
? 吸附物的分子結(jié)構(gòu)（分解、聚合）
? 表面上的鍵合強度
? 吸附幾何結(jié)構(gòu)——表面鍵合位點
? 表面化學(xué)（氧化物形成、還原、中間體等）
? 泛音和組合振動帶
? 表面聲學(xué)和光學(xué)聲子

重要的是，EELS比紅外光譜具有更高的表面靈敏度和更寬的光譜范圍。例如，可以在幾分鐘內(nèi)掃描200-5000 cm?1的光譜范圍，并且能檢測到低于10?3單層的吸附CO。與紅外光譜相比，EELS不受嚴(yán)格的偶極選擇規(guī)則限制，這些規(guī)則通常會妨礙重要模式和吸附物的觀察。在EELS中，長程偶極散射和短程“碰撞”散射機制都能起作用，并且可以根據(jù)散射角度和碰撞能量進行有效研究。例如，偶極活性較弱的分子吸附物可以在碰撞散射區(qū)域被檢測到。EELS獲得的信息理想地補充了Auger電子能譜（AES）、電子能譜化學(xué)分析（ESCA）、低能電子衍射（LEED）、次級離子質(zhì)譜（SIMS）、掃描隧道顯微鏡（STM）等其他表面探測技術(shù)的數(shù)據(jù)，并且為實驗者提供了易于理解的結(jié)果。

LK2000光譜儀
自1986年商業(yè)推出以來，LK2000高分辨率EELS光譜儀在其領(lǐng)域內(nèi)獲得了國際認(rèn)可，被視為性能領(lǐng)先的代表。這一聲譽基于我們對可靠性、客戶滿意度及儀器持續(xù)改進的承諾。LK2000的專利電子光學(xué)設(shè)計和創(chuàng)新的計算機控制是將EELS從曾經(jīng)被視為專家精密技術(shù)，發(fā)展為表面科學(xué)家振動光譜學(xué)“主力工具”的關(guān)鍵因素。LK2000已被全球眾多工業(yè)和學(xué)術(shù)實驗室廣泛使用。它已成功應(yīng)用于多種領(lǐng)域，包括金屬上的烴類化學(xué)吸附（催化）、硅片清洗技術(shù)分析、聚合物薄膜表征、C60薄膜研究等諸多方面。

特點
? 3 meV（全寬半高，F(xiàn)WHM）及以下的分辨率
? 雙通道單色儀
? 卓越的單色電流和計數(shù)率
? 非常低的光譜背景，無“鬼”峰
? 主束能量可調(diào)，范圍0-240 eV
? 日常操作簡便
? 提供固定或可旋轉(zhuǎn)分析儀選項
? 標(biāo)配雙重磁屏蔽
? 低噪聲高穩(wěn)定電源
? 計算機控制電子系統(tǒng)，帶自動調(diào)諧軟件
? 提供完整超高真空系統(tǒng)

LK2000配備了雙通道127°單色儀，具有卓越的電流性能和極低的光譜背景，與單通道分析儀結(jié)合使用。儀器保證的分辨率為3 meV，同時具有非常高的信號強度。此外，儀器提供三種標(biāo)準(zhǔn)安裝配置，方便系統(tǒng)集成。

LK Technologies率先推出了全計算機控制電子系統(tǒng)（型號LK2000-DAC）。這一創(chuàng)新的基于PC的系統(tǒng)配備菜單驅(qū)動的軟件，允許用戶設(shè)置和優(yōu)化所有光譜儀電壓并監(jiān)控關(guān)鍵電流水平。能夠讀取并存儲完整的光譜儀設(shè)置表格，使得儀器在速度和靈活性上遠超傳統(tǒng)EELS電源。這是唯一提供高級軟件以實現(xiàn)信號強度和峰形自動優(yōu)化的商業(yè)系統(tǒng)。該集成系統(tǒng)包括信號恢復(fù)電子設(shè)備以及用于獲取、顯示和分析EELS振動光譜的菜單驅(qū)動軟件。

技術(shù)規(guī)格

  • 型號LK2000-14或LK2000-10 高分辨率EELS光譜儀
    法蘭安裝光譜儀，配備剛性光學(xué)系統(tǒng)，包括所有電氣穿墻連接、電子倍增器和磁屏蔽。尺寸詳情請參見宣傳冊。

  • 型號LK2000-14-R 高分辨率EELS光譜儀
    法蘭安裝，配備55度高精度旋轉(zhuǎn)分析儀，包括所有電氣穿墻連接、電子倍增器和磁屏蔽。尺寸詳情請參見宣傳冊。

  • 型號LK2000-DAC 數(shù)字控制電子包
    包含光譜儀電壓的數(shù)字控制及關(guān)鍵電流讀出。配置包括皮安表、降噪濾波器、電源、386 PC/AT彩色顯示器、硬盤、雙軟驅(qū)、圖形卡和接口設(shè)備。配備菜單驅(qū)動軟件，實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集、自動優(yōu)化及光譜儀電壓控制。包括型號LK2000-CE計數(shù)電子包及必要接口。

  • 型號LK2000-CE 計數(shù)電子包
    包含前置放大器、放大器/鑒別器、頻率計（1 MHz）、電子倍增器11V電源及NIM模塊電源。

超高真空系統(tǒng)（UHV）
提供適用于LK2000系列EELS光譜儀的完整超高真空系統(tǒng)。通常包括定制不銹鋼真空室、離子泵和/或渦輪分子泵、以及帶加熱/冷卻功能的精密樣品操作裝置。

應(yīng)用于UPS
LK2000的高分辨率分析儀也可用作光電子能譜（UPS）研究的角度分辨儀器，適用于實驗室光源或同步輻射光源。有關(guān)此應(yīng)用的最新信息，請聯(lián)系LK Technologies。

機械規(guī)格
? 適用于10英寸或14英寸外徑CFF標(biāo)準(zhǔn)法蘭（可定制設(shè)計）
? 兼容8英寸或12英寸外徑法蘭
? 法蘭到焦點距離12英寸
? UHV腔體尺寸為12英寸和18英寸外徑
? 提供多種樣品進樣方式
? 設(shè)備可耐受200°C烘烤


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