PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Semi-industrial MS systems用于快速和可重復(fù)的薄層應(yīng)用過(guò)程，并提供最大限度的自動(dòng)化操作支持。

磁控濺射系統(tǒng) Semi-industrial MS systems設(shè)計(jì)允許多種沉積技術(shù)的組合，其中包括：DC/RF磁控濺射、反應(yīng)濺射和使用電子束的蒸發(fā)。帶有集成計(jì)算機(jī)的電子柜配有大觸摸屏和用戶友好的軟件，將使基材的涂覆過(guò)程變得平穩(wěn)輕松。

為了方便用戶，可以通過(guò)前門進(jìn)入主腔室，因此很容易更換磁控管靶、基板或維修/清潔腔室內(nèi)部。主腔室由不銹鋼制成，基本壓力范圍<3*10-7毫巴。在標(biāo)準(zhǔn)中，它配備了兩個(gè)3英寸磁控管源（直流、射頻）和一個(gè)6插座電子束蒸發(fā)器。具有旋轉(zhuǎn)功能的機(jī)械手能夠操作樣品支架，最大可達(dá)6英寸。

PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Semi-industrial MS systems軟件主要用于：
沉積系統(tǒng)的完全控制，
用于有效快門控制的自動(dòng)、手動(dòng)和可編程定時(shí)器，
圖形系統(tǒng)狀態(tài)表示，
過(guò)程創(chuàng)建者和控制器，
快速、實(shí)時(shí)的數(shù)據(jù)預(yù)覽，
實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集（與LIMS數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)集成）。
該系統(tǒng)配備了先進(jìn)、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持電源和整個(gè)研究設(shè)備。

PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Semi-industrial MS systems主要特征：
半成品涂裝用自動(dòng)化高壓裝置
非常適合沉積金屬和介電薄膜
工藝室標(biāo)準(zhǔn)尺寸：?570 mm
電源配置：2 x 3〃磁控管和6插座電子束蒸發(fā)器（可提供其他配置）
基本壓力范圍<3×10-7毫巴
具有穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命加熱元件的雙軸機(jī)械手，可實(shí)現(xiàn)高達(dá)300°C的高溫
廣泛的基板支架尺寸（從10×10毫米到6英寸，其他可根據(jù)要求）和形狀
可提供磁控管源的向上濺射和向下濺射布置
在直流、射頻和脈沖直流模式下運(yùn)行
Ar氣體質(zhì)量流量控制自動(dòng)加藥
現(xiàn)場(chǎng)表征工具的可能性，例如等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器（PEM）、橢圓儀、反射儀、石英天平或高溫計(jì)溫度測(cè)量系統(tǒng)
由單一電源和開關(guān)網(wǎng)絡(luò)提供的多個(gè)源，或由用于共沉積處理的多個(gè)電源提供
在直流、射頻和脈沖直流模式下運(yùn)行
可通過(guò)前門快速方便地裝載基板
19英寸機(jī)柜，配有先進(jìn)的電子單元和專用人機(jī)界面（HMI）設(shè)備，用于硬件輕松控制和監(jiān)控過(guò)程
車輪上的剛性主框架使系統(tǒng)易于放置