波蘭 PREVAC 磁控濺射系統(tǒng) Standard MS systems的獨立配置與我們經(jīng)過現(xiàn)場驗證的標準解決方案使沉積過程變得簡單、高效和可靠。
根據(jù)您的需求，我們的標準MS系統(tǒng)磁控濺射系統(tǒng)在單個腔室中提供多種濺射沉積技術(shù)的靈活性。每個系統(tǒng)都有一個通用安裝法蘭，可以配置用于磁控濺射沉積（具有向下濺射或向上濺射配置）或任何其他薄膜沉積技術(shù)的組合。這使得PREVAC Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng) 成為一個通用、強大和簡單的單元，可以滿足表面科學涂層領(lǐng)域的大多數(shù)需求。
PREVAC Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng)的主要優(yōu)點之一是易于進入工藝室，這可以通過前門、自動提升的頂部法蘭或通過底部法蘭進行，使用專門設(shè)計的手推車進行更換。因此，可以輕松快速地更換磁控管靶、基板支架操縱器或訪問/更換整個底部法蘭。頂部法蘭的提升機構(gòu)是電動的，并通過傳感器進行充分保護。
最終設(shè)計和功能取決于系統(tǒng)配置。
PREVAC Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng)配置有適當?shù)拿芊夂?a href="http://guanyatd.com/prevac/tag/%e6%b3%b5%e9%80%81%e7%b3%bb%e7%bb%9f/" title="View all posts in 泵送系統(tǒng)" target="_blank">泵送系統(tǒng)，以實現(xiàn)10^-7毫巴（帶viton密封門）、5×10^-8毫巴（帶有viton密封和差動泵送門）或超高壓壓力（不帶門，帶快速進入負載鎖用于襯底引入）范圍內(nèi)的基本真空。
MS systems 磁控濺射系統(tǒng)工藝室配有不同尺寸的超高壓標準連接法蘭，用于連接當前和未來的設(shè)備，包括：
磁控管源，
基板操縱器，
用于清潔、蝕刻或活化襯底表面的離子源，
泵送系統(tǒng)，
用于線性傳送系統(tǒng)或運輸箱的入口，
氣體計量系統(tǒng)：工藝氣體最多4條管線，以及最多4種氣體的質(zhì)量流量控制，
用于相鄰層或掩模的電動或手動快門（跟隨襯底），
殘余氣體分析儀，
石英天平，
高溫計，
帶檢測器的橢圓儀，
視口（帶百葉窗的觀察窗），
真空計
Standard MS systems 磁控濺射系統(tǒng)主要特征：
獨立的HV/UHV系統(tǒng)，包括用于濺射工藝的高質(zhì)量和高可用性解決方案
非常適合沉積金屬和介電薄膜
工藝室的標準尺寸：?570 mm
主室源端口配置示例：2〃磁控管用6 x DN100CF端口或10 x DN63CF（5個磁控管同時工作），3〃磁控管使用5 x DN 160 ISO-K端口
基本壓力范圍從10-7毫巴到超高壓
雙軸機械手，具有由固體SiC制成的穩(wěn)定、長壽命的加熱器元件和接收站，可實現(xiàn)高達1200°C的高溫
廣泛的基板支架尺寸（從10×10毫米到6英寸，其他可根據(jù)要求）和形狀
提供濺射向上和濺射向下布置
在直流、射頻和脈沖直流模式下運行
Ar氣體質(zhì)量流量控制自動加藥
現(xiàn)場表征工具的可能性，例如等離子體發(fā)射監(jiān)測器（PEM）、橢圓儀、反射儀、石英天平或高溫計溫度測量系統(tǒng)
由單個電源和開關(guān)網(wǎng)絡(luò)提供的多個源，或由用于共沉積處理的多個電源提供
前門通道和/或裝載鎖定室，可快速輕松地裝載基板
可以使用專用起重小車完全接近或更換帶源的底部法蘭
19“帶電子單元的機柜
Synthesis軟件可對沉積過程和設(shè)備進行全面控制
| 應(yīng)用 | 案例 |
| 單層和多層導體膜（用于微電子和半導體器件） | Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au? |
| 用于半導體金屬化的阻擋層 | TiN, W-Ti? |
| 磁性薄膜 | Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si?? |
| 光學涂層——金屬（反射） | Cr, Al, Ag? |
| 光學涂層——電介質(zhì) | MgO, TiO2, ZrO2? |
| 光掩模 | Cr, Mo, W? |
| 透明氣體/蒸汽滲透屏障 | Al2O3? |
| 透明導電體 | InO2, SnO2,In-Sn-O (ITO)? |
可選配件：
