先進(jìn)的 HPPES 系統(tǒng)
用于光電子能譜實(shí)驗(yàn)的研究平臺(tái),壓力范圍為 10-10mbar 至 50 mbar,樣品溫度可控。
PREVAC UHV-HP PES 系統(tǒng)是一種獨(dú)特、性能卓越的分析平臺(tái),適用于最先進(jìn)的高壓光電子光譜分析。它配備了一臺(tái) HP 分析儀,但重點(diǎn)是高度靈活的樣品環(huán)境,部分是新開發(fā)的、高度通用的氣體池,部分是可以用完全不同的腔室設(shè)置替換分析室的可能性。
特征
- 定制設(shè)計(jì),旨在以下領(lǐng)域的研究:
– XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS?技術(shù) |UHV 條件
–?HPXPS / APXPS / APUPS?技術(shù) |環(huán)境壓力條件 - 實(shí)驗(yàn)程序的完全自動(dòng)化
- 回填配置
- 創(chuàng)新、多功能的氣體池
- 回填和氣室的混合解決方案
- 多功能性高 – 拆卸/更換?HP 細(xì)胞機(jī)械手、能量分析儀模塊或分析室模塊
- 高壓半球能量分析儀 EA15-HP50?及設(shè)備
- 高壓、高功率雙陽極?X 射線源,帶單色器?– AlKα & AgLα,帶電源
- 高壓、高功率雙陽極、非單色?X 射線源?– AlKα 和 MgKα,帶電源
- 帶電源的?UV 源
- 帶電源的泛洪源
- 用于深度剖析或清潔的離子源
- 電動(dòng)或手動(dòng)?4-6 軸機(jī)械手,帶有接收站,溫度LHe/LN 系列2最高?1400°C
- 不同的樣品架尺寸:從 10×10 mm 到 1 英寸(可根據(jù)要求提供其他尺寸)
- 極限壓力降至 10-10mbar,具體取決于泵的配置
- 泵送系統(tǒng)(基于備用泵,TMP和TSP帶有冷凍盾牌)
- 全自動(dòng)氣體加樣設(shè)置
- 帶設(shè)備的真空計(jì)
- 樣品架的?Load Lock 室
- 可靠、快速的線性傳輸系統(tǒng),從負(fù)載鎖到分析室
- Viewports – 觀察窗口
- Bakeout 系統(tǒng)
- 系統(tǒng)的可調(diào)節(jié)剛性主機(jī)架
- 帶電子單元的 19 英寸機(jī)柜
- 由?Spectrium 軟件和?PLC 單元完全控制的分析過程和設(shè)備
描述
該站允許對氣-固和氣-液相互作用進(jìn)行前沿研究。該系統(tǒng)配備了自動(dòng)控制功能,允許許多不同的作員安全高效地作許多不同類型的樣品。它提供完整的 PLC 保護(hù)和軟件控制,包括機(jī)器狀態(tài)的清晰可視化、數(shù)據(jù)采集以及所有集成設(shè)備、電源和輔助設(shè)備的控制。
該系統(tǒng)的核心是基于高壓分析儀和 PREVAC 設(shè)計(jì)的氣體單元概念的分析模塊。HP 細(xì)胞縱器設(shè)計(jì)允許通過紅外激光照明(樣品池內(nèi)可達(dá)到 800 °C 以上的樣品溫度)、電阻加熱(高達(dá) 700 °C)和 LN 進(jìn)行樣品加熱2冷卻。
分析室配有 UHV 標(biāo)準(zhǔn)的連接法蘭,用于連接當(dāng)前和未來的設(shè)備,包括:
- 帶設(shè)備的高壓半球能量分析儀,
- 帶電源的高壓 X 射線雙陽極單色源,
- 帶電源的高壓 X 射線雙陽極非單色源,
- 帶電源的 UV 單色光源,
- 帶電源的紫外線源,
- 帶電源的泛洪源,
- 帶電源的電子源,
- 帶電源的離子源,用于深度剖析或清潔,
- 帶電源的氣簇離子源,
- 樣品調(diào)節(jié)器具有較寬的溫度范圍(從 LHe/LN2高達(dá) 1400°C)、
- 泵組(基于備用泵、TMP、離子泵和TSP,具有大面積LN2裹尸布)、
- 帶設(shè)備的真空計(jì),
- 用于線性傳輸系統(tǒng)的入口,例如從負(fù)載鎖到分析室,
- 加載樣品架的 Lock 室,
- viewports – 觀察窗口,
- 殘余氣體分析儀。
該系統(tǒng)的模塊化設(shè)計(jì)允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺(tái)進(jìn)行組合和集成。最終的設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。
泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合,例如前級真空泵、離子泵、渦輪泵或具有大面積 LN 的鈦升華泵2護(hù)罩,根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨(dú)選擇,以實(shí)現(xiàn)最佳泵送性能。
Spectrium 分析控制軟件允許半球形能量分析儀和各種類型的源集成和完美協(xié)作,從而實(shí)現(xiàn)輕松的配方編寫、自動(dòng)測量控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于?Tango 開源設(shè)備集成新的附加組件。
選項(xiàng)
- 帶機(jī)械手的?HP 壓力傳感器
- 全自動(dòng)混合室和 4 種氣體加樣設(shè)置
- 帶電源的?UV 單色光源,
- 帶電源的電子源
- 帶電源的氣體簇離子源
- 儲(chǔ)藏室
- 徑向分布室或傳輸隧道
- 真空手提箱(運(yùn)輸箱),在負(fù)載鎖室中帶端口
- 殘余氣體分析儀
- 高溫計(jì)
技術(shù)
光電子能譜 (PES)?是一種實(shí)驗(yàn)技術(shù),也是電子能譜的主要變體。該方法基于光電現(xiàn)象和對光電子動(dòng)能分布的分析。發(fā)射的能量是表面樣品受到電磁輻射激發(fā)的結(jié)果。?
PES 技術(shù)是最常用的表面測試和薄層檢查方法。它提供的信息包括:定量組成、原子鍵特性、層厚?;具^程(光效應(yīng))測量光子照射物質(zhì)后產(chǎn)生的光電子發(fā)射。?
包括分析 PES 技術(shù):?
- XPS?– X 射線光電子能譜?
- HAXPES?– 硬 X 射線光譜?
- UPS?– 紫外光電子能譜?
- ARPES?– 角度分辨光電子能譜?
其他技術(shù):?
- IPES?– 逆光電子發(fā)光光譜?
- LEIPS?– 低能量逆光電子能譜?
- AES?– 俄歇電子能譜?
- EELS?– 電子能量損失譜?
- ISS?– 離子散射光譜?