先進的 MBE 系統(tǒng)
用于薄層生長技術(shù)的先進多腔室平臺，旨在與其他表面科學(xué)技術(shù)、輔助實驗室設(shè)備和任何附件實現(xiàn)最大兼容性。
多功能的模塊化設(shè)計允許輕松擴展平臺并與任何其他沉積、分析或制備HV/UHV單元集成，例如通過徑向分配或隧道轉(zhuǎn)移系統(tǒng)。
它用于單晶的薄膜沉積，并具有磁特性、形貌、晶體學(xué)、薄膜厚度等的原位表征。
特征
- 為 MBE?和其他表面技術(shù)提供定制的廣泛解決方案
- 適合 III/V、II/VI 族元素以及其他異質(zhì)結(jié)構(gòu)的生長
- DN 63CF 端口中多達 10 個蒸發(fā)源，帶電源
- 帶電源的帶閥裂解源
- 帶電源的大功率電子槍
- 1-4 軸電動或手動機械手，帶接收站，能夠?qū)崿F(xiàn)高達 1400°C 的高溫（帶有穩(wěn)定、長壽命的固體 SiC 加熱器元件）
- 基板支架尺寸范圍：從 10×10 mm 到 8 英寸
- 極限壓力從 5×10 起-10至 5×10-11毫巴
- 工藝腔?? 300 或 450 mm，帶可更換的底部法蘭（例如，最多 10 個 DN 63CF 端口，用于?? 450 mm?腔體內(nèi)的蒸發(fā)源）
- 泵送系統(tǒng)（基于前級泵、TMP、離子泵和TSP）
- 帶設(shè)備的真空計
- 用于沉積速率測量的石英天平和帶有 Z 機械手的厚度監(jiān)視器，用于測量焦點的速率
- RHEED/TorrRHEED 帶設(shè)備
- DN 63CF 端口上的附加獨立快門
- 樣品架的 Load Lock 室
- 可靠、快速的線性傳輸系統(tǒng)，從負載鎖到工藝室
- Viewports – 帶百葉窗的觀察窗
- 烘烤前帶有集成吹掃管路的冷卻系統(tǒng)
- Bakeout 系統(tǒng)?
- 系統(tǒng)的可調(diào)節(jié)剛性主機架?
- 模塊化框架，可進行擴展
- 樣品制備解決方案系列，例如手套箱、樣品切割器或?qū)闃悠芳訜?、冷卻、清潔等而設(shè)計的設(shè)備齊全的制備室。?
- 帶電子單元的 19 英寸機柜?
- 專用人機界面 （HMI） 設(shè)備，用于硬件輕松控制和監(jiān)控
- Synthesium 軟件用于完全控制沉積過程和設(shè)備
描述
處理室可以包含10個蒸發(fā)源端口，基板階段適用于直徑高達8英寸的樣品，具有加熱和旋轉(zhuǎn)選項。?沉積過程可以在很寬的溫度范圍內(nèi)進行控制（從 LN2高達 1400°C），并且可以完全通過 PLC 控制器進行軟件編程和控制。?
工藝腔室配有 UHV 標(biāo)準(zhǔn)的連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來的設(shè)備，包括：?
- 最多 10 個帶法蘭 DN 63CF 的光源（高溫或低溫，單絲或多絲），
- 帶法蘭的獨立百葉窗 DN 63CF，
- 帶電源的帶閥裂解器源，
- 帶電源的大功率 E-guns，
- 溫度范圍 （LN 起）2高達 1400°C）、
- 泵送系統(tǒng)（基于備用泵、TMP、離子泵和TSP泵），
- 帶設(shè)備的真空計，
- 用于線性傳輸系統(tǒng)的入口，例如來自負載鎖、徑向分配室、傳輸隧道或運輸箱，
- 帶 Z 機械手的石英天平，
- RHEED/TorrRHEED 與設(shè)備，
- 電動或手動快門（跟隨基材），用于鄰近層或掩模，
- 附加氣體加注系統(tǒng)，例如。對于反應(yīng)沉積過程，
- viewports – 帶百葉窗的觀察窗，
- 殘余氣體分析儀 /
- 光束通量監(jiān)測器 /
- 診斷設(shè)備的加熱視口。
最終的設(shè)計和功能取決于系統(tǒng)配置。
該系統(tǒng)的模塊化設(shè)計允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺進行組合和集成。
泵送系統(tǒng)與工藝腔室的標(biāo)準(zhǔn)容積相結(jié)合，可達到 5×10 范圍內(nèi)的極限壓力-10– 5×10-11?mbar，具體取決于泵的配置。?泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合，例如前級真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪分子泵或鈦升華泵，根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨選擇以實現(xiàn)最佳泵送性能。?
Synthesium?過程控制軟件允許各種類型和制造商的來源進行集成和完美合作，并實現(xiàn)輕松的配方編寫、自動生長控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于?Tango 開源設(shè)備集成新的附加組件。
該系統(tǒng)配備了先進、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持離子源和整個包含的研究設(shè)備。
選項
- 額外的儲存室?
- 電動或手動快門（跟隨基材），用于鄰近圖層或掩模
- 防止交叉污染的防護罩?
- 真空手提箱（運輸箱），在負載鎖室中帶端口
- 附加氣體加注系統(tǒng)，例如。用于反應(yīng)沉積工藝
- 殘余氣體分析儀
- 光束通量監(jiān)測器?
- 診斷設(shè)備的加熱視窗
- 高溫計
應(yīng)用
| 應(yīng)用 | 來源 | |||
| 積液細胞 | 電子束蒸發(fā)器 | 帶閥裂解器源 | 升華源 | |
| 金屬 | 鋁、鈷、鎳、銅 （等） | 鉬、鈀、鉭、鎢、鉑 | ||
| III/V 組 | 鈹、鋁、鎵、銦 | 磷、砷、銻 | 碳、硅摻雜 | |
| 第 II/VI 組 | 鈹、鋅、鎘 | 硫、硒、碲 | ||
| 第四組 | 鍺、錫、鉛 | 硅、鍺 | 硼、磷、銻 摻雜 | |
| 氧化物 | 錳、鐵、鎳、鎵、鎵、鉍、鉉 | |||
| 拓撲絕緣體 （TI） | 鍺、錫、碲、鉍、GeSb | 硼 | 硒, 碲 | |
