紅外室專為紅外光譜研究而設(shè)計(jì)。它配備了精密的樣品定位機(jī)構(gòu)、視口和備用端口，用于未來(lái)的設(shè)備。該系統(tǒng)包括溴化鉀玻璃端口，可與 Bruker Optics Inc. 紅外光譜儀配合使用。其他市售光譜儀可根據(jù)要求進(jìn)行接口。 |
UHV 系統(tǒng)，用于超薄磁膜和多層的原位實(shí)時(shí)磁光克爾效應(yīng)研究。 它旨在研究偏振光通過(guò)受磁場(chǎng)影響的樣品材料的反射。 ? |
獨(dú)立的 UHV 裝置，用于測(cè)量超薄膜的吸附/解吸，能夠在較寬的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行高精度溫度控制。 |
獨(dú)特的原子力顯微鏡分析系統(tǒng)，可在寬壓力范圍內(nèi)工作，用于氣固界面的前沿研究。主 AFM 室 – 由不銹鋼制成，帶有不同尺寸的連接法蘭，用于當(dāng)前和其他設(shè)備。工作壓力范圍為 1 個(gè)大氣壓至 UHV（在 150 oC 下烘烤后）。 |
| 摩擦計(jì) 帶 6 軸力傳感器的 UHV 摩擦計(jì)。 用于研究?jī)蓚€(gè)表面之間的摩擦學(xué)和機(jī)械性能（例如，用于壓痕和斷裂實(shí)驗(yàn)）的模塊，溫度范圍很廣，從 UHV 到環(huán)境壓力條件。 |
