VariGATR™ 掠角 ATR 附件是分析半導體和金屬襯底上單層層的革命性方法。VariGATR™ 是可變角度的，因此可以優(yōu)化入射角，以獲得這些類型樣品的最高靈敏度。其專門設(shè)計的壓力涂抹器經(jīng)過優(yōu)化，可在樣品和 Ge ATR 晶體之間提供良好的接觸。VariGATR™ 非常適合快速、可重復的測量，并且相對于掠射角方法，靈敏度至少提高了一個數(shù)量級。此外，它還提供了一個易于使用、完全預對準的水平采樣附件，非常方便。

特征

• 方便的水平采樣表面。
• 內(nèi)置壓力涂抹器，帶滑動離合器，可實現(xiàn)可重復的壓力應(yīng)用。
• 從 60o 到 65o 的連續(xù)可變角度允許優(yōu)化以獲得最大靈敏度。
• 消隙機構(gòu)允許準確、可重復的角度選擇。
• 鑲嵌的 Ge ATR 晶體。
• 可容納直徑達 8 英寸的樣品，可對直徑達 6 英寸的圓盤進行中心采樣。
• PermaPurge™ 用于快速清洗系統(tǒng)。
• 選項包括：
  • 用于增強光譜對比度和方向研究的線柵偏振器。包括滑板安裝。
  • 帶數(shù)字讀數(shù)的力傳感器，用于精確測量為實現(xiàn) ATR 晶體與樣品之間的接觸而施加的力。
  • 提供低扭矩滑動離合器。
  • 用于大樣品的角度刻度觀察助手。

包括

• Ge 半球形 ATR 晶體。
• 內(nèi)置壓力施加器，專為容納大樣品而設(shè)計。
• 指定光譜儀的安裝硬件。