WafIR™ 是一種水平 ATR 附件，用于分析應(yīng)用于雙面拋光晶圓一側(cè)的單層和其他薄涂層。它具有 45° 入射角硅晶體，可將光耦合進(jìn)出晶圓。WafIR 將壓力涂抹器與壓力墊相結(jié)合，旨在以最小的接觸面積實(shí)現(xiàn)最佳接觸，并且接觸區(qū)域位于測量區(qū)域之外。壓力施加器包括一個(gè)滑動(dòng)離合器，用于限制施加到樣品上的總力，并與扭矩扳手兼容以實(shí)現(xiàn)可重復(fù)性。WafIR 是完全封閉的，可快速吹掃，并與大多數(shù) FTIR 光譜儀兼容。

特征

• 無障礙的水平采樣表面可容納直徑為 52 x 10 mm 至 203 mm （8“） 的晶圓。
• 非接觸式采樣方法;與耦合晶體的接觸范圍在測量區(qū)域之外。
• 由于多次反射，靈敏度高。
• 為 0.770 mm 厚的晶圓提供來自涂層表面的 33 次反射。
• 固定 45° 入射角。
• 可更換的 Si 耦合晶體。
• 內(nèi)置滑動(dòng)離合器限制了施加到樣品上的總力。
• 獨(dú)特的壓力涂抹器，帶襯墊，與樣品的接觸最小。
• 易于對齊和使用。
• PermaPurge™ 可在不中斷吹掃的情況下快速更換樣品。

包括

• WafIR 與 Si 耦合晶體。
• 指定光譜儀的配接硬件。