在帶有經(jīng)典立方加熱室的真空爐中，工作空間受到垂直和水平室壁的限制。加熱器由石墨元件制成。冷卻氣體由特殊的氣體分配器從下到上分配，反之亦然。氣體方向可以同時(shí)控制溫度和時(shí)間。

優(yōu)點(diǎn)：

• 特別適用于大批量的熱處理
• 模塊化結(jié)構(gòu)
• 即使在最困難的條件下也能獲得均勻的加熱效果
• 加熱和冷卻過程中無與倫比的溫度均勻性
• 根據(jù)您的要求進(jìn)行加熱和淬火
• 符合當(dāng)前所有航空標(biāo)準(zhǔn)（AMS 2750 E，NADCAP等）
• 通過觸摸屏進(jìn)行簡(jiǎn)單安全的操作
• 自己的制導(dǎo)系統(tǒng)“ hestia”
• 各種高真空選項(xiàng)：油擴(kuò)散泵，渦輪分子泵，低溫泵
• 服務(wù)型
• 高效節(jié)能

標(biāo)準(zhǔn)尺寸：（WxHxL單位為毫米）
VWQ 446400 x 400 x 600
VWQ 669600 x 600 x 900
VWQ 9812 900 x 800 x 1200

根據(jù)要求其他尺寸和技術(shù)數(shù)據(jù)